影响分子束外延的因素有哪些

日期：2024-11-08 02:54

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摘要：

影响分子束外延的因素：

1、压力的影响

在10-3帕真空度下，在1秒钟时间内残余气体的单原于层就能够覆盖臂开的表面，如果在10-5到10-7Pa真空条件下臂开并且马上进行蒸镀，那么应当更进一步地降低外延温度，然而通过实验证明，并不是这样，例如M和A在高真空下进行外延蒸镀与在超高真空下进行外延蒸镀，它们的结果的差别并没有很大。但是铜、银和金在超高真空下，使(001)面平行于基片，那么单晶膜的生成就会变得相当困难，这表明对铜、银和金进行外延蒸镀时，还需要对基片表面进行适用的处理。

2、蒸发速度的影响

若对蒸发速度进行降低也会降低碲的外延温度，将金蒸镀外延于氯化钠时，也会降低氯化钠上面的平行方位的蒸发速度，就能够在较低的基片温度下进行晶体外延。

3、外延温度的影响

为了导致外延，基片的温度应当达到某一温度值，那么加热超过外延温度就变得相当有必要。并且外延温度还和其他的条件相关。当条件不一样时，外延温度也会存在差异。

4、基片结晶的臂开的影响

在以往的常规研究方面，基片结晶是在大气下臂开（机械折断使得结晶面产生）之后往真空装置中放入来对外延单晶膜进行制取。晶面如果臂开就马上进行制膜的方法已经被研究了。因为该两种方法有所差异，因此其外延温度也不一样。在真空下臂开基片结晶会导致处延临界温度的值不同。

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